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65 |
진공증착기 |
HDPCVD II |
Plasma-Therm, Apex SLR HDP-CVD |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C1-4) |
Link |
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64 |
고성능 비트에러율테스터 |
High-Performance Bit-Error-Rate Tester |
MP1800A 외 |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104-1동 207호
측정장비실) |
Link |
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63 |
슈퍼잉크젯프린터 |
Super-Inkjet Printer |
SIJ-S050 |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C5-2) |
Link |
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62 |
원자층증착기 |
ALD(CMOS ALD II) CNI |
CN1
3chamber cluster |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C1-5) |
Link |
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61 |
마스크리스패터닝시스템 |
Maskless Patterning System |
DL-1000 HP |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C2-1) |
Link |
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60 |
유도 결합형 플라즈마를 이용한
다결정 규소식각기 |
CMOS ICP etcher II
poly Si & c-Si |
NeoGEN-MAXIS200L |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C1-3) |
Link |
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59 |
전자빔 증발 진공증착기 |
E-gun Evaporator |
SRN-200 |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C2-1) |
Link |
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58 |
MEMS/양자정보처리유도 결합형
플라즈마를 이용한 절연막 식각기 |
MEMS ICP DIELECTRIC Etcher |
NEOS-MAXIS 200L |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C2-1) |
Link |
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57 |
범용 금속 원자층 증착 장비,
로드락이 합쳐진 클러스터장비
(ALD2챔버+Buffer
챔버 Load lock)ALD
Cluster SYSTEM |
MEMS ALD2
ALD Cluster System |
2CH PLASMA ENHANCED ALD SYSTEM |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C4-1) |
Link |
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56 |
CMOS 유도결합형 플라즈마를
이용한 절연막 식각기 |
CMOS ICP dry Etcher-SiO2*SiN)
CMOS ICP SIO/SIN ETCHER_Plasma therm |
APEX SLR ICP |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C1-5) |
Link |
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55 |
마스크리스 리소그래피 시스템 |
Maskless Lithography System
Maskless Pattern System 2 |
DL-1000HP C2R10/SNU-2 |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C2-4) |
Link |
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54 |
유도결합플라즈마 반응성이온식각기 |
(inductively-coupled-plasmareactive-ion etcher)
MEMS ICP METAl ETCHER |
PLASMAPRO100 COBRA300 |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 2층팹 C5지역) |
Link |
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53 |
플라즈마 강화 원자층 증착기 |
(Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition System)
CMOS ALD3호기(SiO2전용), cmos ald 4호기 (Si3N4전용) |
Premium system |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 2층 Fab) |
Link |
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52 |
비정질산화물 반도체기반 ALD시스템 |
(ALD System for Amorphous Oxide Semiconductor)
cmos ald 5호기 Al2O3 |
classic system |
반도체공동연구소 |
반도체공동연구소
(104동 2층 Fab) |
Link |
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51 |
실시간 나노복합재료 기계강도 측정용 수차보장 주사투과전자현미경 |
Cs-STEM |
JEM-ARM200F |
신소재공동연구소 |
관악 신소재공동연구소
(37동 106호) |
Link |
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