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| No. | Title | Name | Model | Institution | Location | Link |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 170 | 마스크리스패터닝시스템 | Maskless Patterning System | DL-1000 HP | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1) | Link |
| 169 | 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다결정 규소식각기 | CMOS ICP etcher II poly Si & c-Si | NeoGEN-MAXIS200L | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-3) | Link |
| 168 | 전자빔 증발 진공증착기 | E-gun Evaporator | SRN-200 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1) | Link |
| 167 | MEMS/양자정보처리유도 결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 | MEMS ICP DIELECTRIC Etcher | NEOS-MAXIS 200L | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1) | Link |
| 166 | 범용 금속 원자층 증착 장비, 로드락이 합쳐진 클러스터장비 (ALD2챔버+Buffer 챔버 Load lock)ALD Cluster SYSTEM | MEMS ALD2 ALD Cluster System | 2CH PLASMA ENHANCED ALD SYSTEM | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C4-1) | Link |
| 165 | CMOS 유도결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 | CMOS ICP dry Etcher-SiO2*SiN) CMOS ICP SIO/SIN ETCHER_Plasma therm | APEX SLR ICP | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-5) | Link |
| 164 | 마스크리스 리소그래피 시스템 | Maskless Lithography System Maskless Pattern System 2 | DL-1000HP C2R10/SNU-2 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-4) | Link |
| 163 | 고분해능 엑스선회절장치 | HR-XRD | Xpert pro(MRD) | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (131동 112호) | Link |
| 162 | 전자후방산란회절기 | EBSD | EBSD(oxford) | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 108호) | Link |
| 161 | 전계방출형 투과전자현미경 | FE-TEM | Tecnai F20 | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 106-2호) | Link |
| 160 | 집속이온빔 | FIB | Helios 5 UC | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 110호) | Link |
| 159 | 구면수차보정투과전자현미경 | Cs corrected monochromated TEM/STEM | Themis Z | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 104호) | Link |
| 158 | 형광수명분광계 | PL(Photoluminescence) | D8 Advance | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소(131동 114호) | Link |
| 157 | 주사전자현미경 | FE-SEM | SU-70 | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 113호) | Link |
| 156 | 전계방출형 주사전자현미경 | FE-SEM | JSM-7600F | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 113호) | Link |
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