고주파 및 직류 마그네트론 스퍼터링 시스템
Submitted by rnd_admin on Tue, 10/22/2024 - 00:10
ename_ko:
고주파 및 직류 마그네트론 스퍼터링 시스템
ename_en:
RF & DC Magnetron Sputter
emodel:
KVS-5000L
institution:
응용물리연구소
location:
관악 자연과학관2
(19동 409호)
epname:
김영찬
tel:
02-871-7104
email:
kyc1607@snu.ac.kr
link:
https://iap.snu.ac.kr/equipment/list?cateidx=19
keyword:
금속 및 산화물 진공 증착용 장비
- Deposition sample size : 조각 시편 ~ 2 inch
- System control : PLC based PC auto
- System Safety : 진공냉각수압축공기와 시스템 간 안전 연동 방식
- Main Chamber + Loadlock Chamber
- Sputtering source : 6 set (SiO2, BTO, Nb, TiN, Nb, Au)
- Heating temperature and uniformity : ±5℃, ~1000℃
- Deposition uniformity : <±3%
- Ultimate Pressure : 5.0E-9Torr
code:
iap19_sputter