유도결합형 플라즈마 화학기상증착장치
Submitted by rnd_admin on Tue, 10/22/2024 - 00:10
ename_ko:
유도결합형 플라즈마 화학기상증착장치
ename_en:
PECVD
emodel:
JPEC-2000
institution:
응용물리연구소
location:
관악 자연과학관2
(19동 419호)
epname:
김영찬
tel:
02-871-7104
email:
kyc1607@snu.ac.kr
link:
https://iap.snu.ac.kr/equipment/list?cateidx=19
keyword:
1. 장비 구성
- 메인 챔버 1set, 로드락 챔버 1set
- 펌핑 시스템 1set
- 가스공급 시스템 1set
- 시스템 제어 1set
2. 기능
- 기판 사이즈 : 4inch
- 온도 범위 : 700 ~ 1000℃
- 온도 균일도 : ±6% 이하
- 진공도 : 메인 챔버 5E-6 Torr 이하, 로드락 챔버 5E-2Torr 이하
3. 메인 챔버
- 메인 챔버 사이즈 : 450(OD)×400(H)
- 주요 공정 가스: Ar, H2, CH4
- 공정 온도 : 30 ~ 1000℃,
- 공정 압력 : 수 mTorr ~ 수백 mTorr
4. 로드락 챔버
- 기판의 교환 작업 진행.
- 최대 진공도 : 5E-2 Torr
- 로드락 챔버의 재질 : SUS304
5. 펌핑 시스템
- 고진공펌프 (Turbo Molecular Pump, 1,000liter/sec)와 로터리펌프(1,000liter/min)
- 로드락 챔버 : 로타리 펌프(400liter/min) 장착
6. 가스공급 시스템
- 주요 공정 가스 : 기본적으로 Ar(300sccm), H2(300sccm), CH4(5sccm)를 사용
7. 시스템 제어
- PLC를 기반으로 한 PC 제어 시스템 : 모든 공정 변수가 PC상에서 모니터링 됨
8. Performance
- 최종 진공도 : 8E-7 Torr 이하
- 공정압력 : 수mTorr ~ 수백 mTorr
code:
iap19_pecvd