반도체검사기

ename_ko: 
반도체검사기
ename_en: 
CMOS ICP METAL ETCHER
emodel: 
APEX SLR ICP MK I
institution: 
반도체공동연구소
location: 
반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4)
epname: 
박태영
tel: 
880-8825
email: 
alexpark@snu.ac.kr
keyword: 
장비 설명 - Metal etcher (AI, Ti, TiN, etc) 공정 범위 - Over etch 10~20% 이상 권장. - 반도체공동연구소에서 규정한 CMOS Metal 물질만 식각 가능. - 기본공정조건 외 AI etch 후 별도로 Ashing 공정 가능하나 corrosion 발생 가능성 있음.
code: 
ICP03

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