마스크리스 리소그래피 시스템
Submitted by rnd_admin on Tue, 10/22/2024 - 00:10
ename_ko:
마스크리스 리소그래피 시스템
ename_en:
Maskless Lithography System
Maskless Pattern System 2
emodel:
DL-1000HP C2R10/SNU-2
institution:
반도체공동연구소
location:
반도체공동연구소
(104동 1층 Fab C2-4)
epname:
박유경
tel:
880-9578
email:
jjwkkwmi@snu.ac.kr
link:
https://isrc.snu.ac.kr/new/contents/menu4/equip_data.php?seq=111%22
keyword:
Mask 없이 GDS File 만으로 패턴을 구현할 수 있으며 Auto/Manual로 Alignment를 진행 할 수 있음
code:
MLS02