집속이온빔
Submitted by rnd_admin on Tue, 10/22/2024 - 00:10
ename_ko:
집속이온빔
ename_en:
FIB
emodel:
Helios 5 UC
institution:
신소재공동연구소
location:
관악 신소재공동연구소
(37동 110호)
epname:
황보은
tel:
02-880-8027
email:
eun0622@snu.ac.kr
link:
https://riam.snu.ac.kr/sub.php?code=ZESrM6&dong=&mode=view&serial=89
keyword:
<원리 및 기능>
FIB는 가늘게 집속된 이온빔을 시료표면에 주사하여 발생한 전자와 이온을 검출하여 미세한 현미경 상을 관찰하거나 시료표면을 가공하는 장비이다. TEM 샘플을 만드는 용도로 가장 많이 사용되고 있으며, 나노 크기의 이미지를 관찰하고 조작 및 가공할 수 있다.
FEI FIB장비에는 dual beam이 장착되었으며, 이온소스는 Ga을 사용한다. Depo가스로는 C, Pt, W를 사용한다. 추가적으로 장비내에 EDS가 있어 SEM 분석시 활용하고있다. Auto 프로그램을 이용하여 TEM Sample을 자동으로 가공할 수 있으며, SEM 단면분석시 필요한 Milling도 가능하다.
<장비활용>
(1) TEM Sampling (Lamella)
(2) Cross Milling-SEM 분석, Depo
(3) EDS 분석
<사양>
1. Electron optics
1) Accelerating voltage : 350V to 30kV
2) Beam Current : 0.8pA ~ 100nA
3) Magnification : 3 ~ x 1,280,000
2. Ion optics
1) Accelerating voltage : 500V to 30kV
2) Beam Current : 1pA to 100nA
3. Ion Source : Ga
4. GIS(Depo) : Pt, C, W
code:
riam_FIB02