연구장비 공동활용

전체 | 516개
상세 검색
No. 장비명(국문) 장비명(영문) 모델명 보유기관 장비위치 예약화면
81 식각기 OXFORD ICP-Etcher PLASMA PRO 100 COBRA 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-5)
80 플라즈마화학기상증착기 PE-CVD Oxford Plasma pro 100 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-5)
79 원자층박막증착기 Nano ALD System CMOS ALD I NANO AL-CVD SYSTEM 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-7)
78 플라즈마강화원자층증착기 ALD Cluster System MEMS ALD PE ALD System(MEMS) 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-1)
77 진공증착기 Sputtring system SRN-120 SRN-120 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C3)
76 반도체검사기 CMOS ICP METAL ETCHER APEX SLR ICP MK I 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4)
75 진공증착기 HDPCVD II Plasma-Therm, Apex SLR HDP-CVD 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4)
74 고성능 비트에러율테스터 High-Performance Bit-Error-Rate Tester MP1800A 외 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104-1동 207호 측정장비실)
73 슈퍼잉크젯프린터 Super-Inkjet Printer SIJ-S050 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-2)
72 원자층증착기 ALD(CMOS ALD II) CNI CN1 3chamber cluster 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-5)
71 마스크리스패터닝시스템 Maskless Patterning System DL-1000 HP 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
70 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다결정 규소식각기 CMOS ICP etcher II poly Si & c-Si NeoGEN-MAXIS200L 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-3)
69 전자빔 증발 진공증착기 E-gun Evaporator SRN-200 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
68 MEMS/양자정보처리유도 결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 MEMS ICP DIELECTRIC Etcher NEOS-MAXIS 200L 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
67 범용 금속 원자층 증착 장비, 로드락이 합쳐진 클러스터장비 (ALD2챔버+Buffer 챔버 Load lock)ALD Cluster SYSTEM MEMS ALD2 ALD Cluster System 2CH PLASMA ENHANCED ALD SYSTEM 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C4-1)

페이지

수정요청

현재 페이지에 대한 의견이나 수정요청을 관리자에게 보내실 수 있습니다.
아래의 빈 칸에 내용을 간단히 작성해주세요.

닫기