연구장비 공동활용

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No. 장비명(국문) 장비명(영문) 모델명 보유기관 장비위치 예약화면
55 진공증착기 HDPCVD II Plasma-Therm, Apex SLR HDP-CVD 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4)
54 고성능 비트에러율테스터 High-Performance Bit-Error-Rate Tester MP1800A 외 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104-1동 207호 측정장비실)
53 슈퍼잉크젯프린터 Super-Inkjet Printer SIJ-S050 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-2)
52 원자층증착기 ALD(CMOS ALD II) CNI CN1 3chamber cluster 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-5)
51 마스크리스패터닝시스템 Maskless Patterning System DL-1000 HP 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
50 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다결정 규소식각기 CMOS ICP etcher II poly Si & c-Si NeoGEN-MAXIS200L 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-3)
49 전자빔 증발 진공증착기 E-gun Evaporator SRN-200 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
48 MEMS/양자정보처리유도 결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 MEMS ICP DIELECTRIC Etcher NEOS-MAXIS 200L 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1)
47 범용 금속 원자층 증착 장비, 로드락이 합쳐진 클러스터장비 (ALD2챔버+Buffer 챔버 Load lock)ALD Cluster SYSTEM MEMS ALD2 ALD Cluster System 2CH PLASMA ENHANCED ALD SYSTEM 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C4-1)
46 CMOS 유도결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 CMOS ICP dry Etcher-SiO2*SiN) CMOS ICP SIO/SIN ETCHER_Plasma therm APEX SLR ICP 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-5)
45 마스크리스 리소그래피 시스템 Maskless Lithography System Maskless Pattern System 2 DL-1000HP C2R10/SNU-2 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-4)
44 유도결합플라즈마 반응성이온식각기 (inductively-coupled-plasmareactive-ion etcher) MEMS ICP METAl ETCHER PLASMAPRO100 COBRA300 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 2층팹 C5지역)
43 플라즈마 강화 원자층 증착기 (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition System) CMOS ALD3호기(SiO2전용), cmos ald 4호기 (Si3N4전용) Premium system 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 2층 Fab)
42 비정질산화물 반도체기반 ALD시스템 (ALD System for Amorphous Oxide Semiconductor) cmos ald 5호기 Al2O3 classic system 반도체공동연구소 반도체공동연구소 (104동 2층 Fab)
41 실시간 나노복합재료 기계강도 측정용 수차보장 주사투과전자현미경 Cs-STEM JEM-ARM200F 신소재공동연구소 관악 신소재공동연구소 (37동 106호)

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