연구장비 공동활용
전체 | 280개
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No. | 장비명(국문) | 장비명(영문) | 모델명 | 보유기관 | 장비위치 | 예약화면 |
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175 | 식각기 | OXFORD ICP-Etcher | PLASMA PRO 100 COBRA | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-5) | 바로가기 |
174 | 슈퍼잉크젯프린터 | Super-Inkjet Printer | SIJ-S050 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-2) | 바로가기 |
173 | 고성능 비트에러율테스터 | High-Performance Bit-Error-Rate Tester | MP1800A 외 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104-1동 207호 측정장비실) | 바로가기 |
172 | 진공증착기 | HDPCVD II | Plasma-Therm, Apex SLR HDP-CVD | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4) | 바로가기 |
171 | 반도체검사기 | CMOS ICP METAL ETCHER | APEX SLR ICP MK I | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4) | 바로가기 |
170 | 진공증착기 | Sputtring system SRN-120 | SRN-120 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C3) | 바로가기 |
169 | 플라즈마강화원자층증착기 | ALD Cluster System MEMS ALD | PE ALD System(MEMS) | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-1) | 바로가기 |
168 | 원자층박막증착기 | Nano ALD System CMOS ALD I | NANO AL-CVD SYSTEM | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-7) | 바로가기 |
167 | 플라즈마화학기상증착기 | PE-CVD | Oxford Plasma pro 100 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-5) | 바로가기 |
166 | 저온 단결정 X선 회절기 | Single Crystal XRD | D8 Quest | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관2 (19동 407호) | 바로가기 |
165 | 푸리에 변환 적외선 분광계 | FT-IR Spectrometer | Vertex 80v | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관2 (19동 402호) | 바로가기 |
164 | 헬륨 액화기 | Helium Liquefier | LHeP55 | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관2 (19동 B104호) | 바로가기 |
163 | 유도결합형 플라즈마 화학기상증착장치 | PECVD | JPEC-2000 | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관2 (19동 419호) | 바로가기 |
162 | 플로팅 존 용융로 | Optical Floating Zone Furnace | FZ-T-10000-H-VII-VPO-PC | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관2 (19동 410호) | 바로가기 |
161 | 반응성 이온 식각기 | reactive ion etcher (RIE) | RIE-10NR | 응용물리연구소 | 관악 자연과학관 4 (22동 118호) | 바로가기 |