연구장비 공동활용
전체 | 280개
상세 검색
| No. | 장비명(국문) | 장비명(영문) | 모델명 | 보유기관 | 장비위치 | 예약화면 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 160 | 진공증착기 | HDPCVD II | Plasma-Therm, Apex SLR HDP-CVD | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-4) | 바로가기 |
| 159 | 고성능 비트에러율테스터 | High-Performance Bit-Error-Rate Tester | MP1800A 외 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104-1동 207호 측정장비실) | 바로가기 |
| 158 | 슈퍼잉크젯프린터 | Super-Inkjet Printer | SIJ-S050 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C5-2) | 바로가기 |
| 157 | 유도결합플라즈마 반응성이온식각기 | (inductively-coupled-plasmareactive-ion etcher) MEMS ICP METAl ETCHER | PLASMAPRO100 COBRA300 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 2층팹 C5지역) | 바로가기 |
| 156 | 라만 분광계 | Raman spectrometer | LabRAM HR Evolution | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (131동 113호) | 바로가기 |
| 155 | 엑스레이 광전자분광기 | X-ray Photoelectron Spectrometer | Versaprobe Ⅲ | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (131동 110-2호) | 바로가기 |
| 154 | 엑스레이 광전자분광기 | X-ray Photoelectron Spectrometer | AXIS-His | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (131동 112호) | 바로가기 |
| 153 | 투과전자현미경 | TEM | JEM-3000F | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 111호) | 바로가기 |
| 152 | 투과전자현미경 | Analyticla TEM | JEM-2100F | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 110호) | 바로가기 |
| 151 | 실시간 나노복합재료 기계강도 측정용 수차보장 주사투과전자현미경 | Cs-STEM | JEM-ARM200F | 신소재공동연구소 | 관악 신소재공동연구소 (37동 106호) | 바로가기 |
| 150 | 비정질산화물 반도체기반 ALD시스템 | (ALD System for Amorphous Oxide Semiconductor) cmos ald 5호기 Al2O3 | classic system | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 2층 Fab) | 바로가기 |
| 149 | 플라즈마 강화 원자층 증착기 | (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition System) CMOS ALD3호기(SiO2전용), cmos ald 4호기 (Si3N4전용) | Premium system | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 2층 Fab) | 바로가기 |
| 148 | 유도 결합형 플라즈마를 이용한 다결정 규소식각기 | CMOS ICP etcher II poly Si & c-Si | NeoGEN-MAXIS200L | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C1-3) | 바로가기 |
| 147 | 전자빔 증발 진공증착기 | E-gun Evaporator | SRN-200 | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1) | 바로가기 |
| 146 | MEMS/양자정보처리유도 결합형 플라즈마를 이용한 절연막 식각기 | MEMS ICP DIELECTRIC Etcher | NEOS-MAXIS 200L | 반도체공동연구소 | 반도체공동연구소 (104동 1층 Fab C2-1) | 바로가기 |
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